引起創(chuàng)傷性口炎的原因是什么呢?只有弄清病因，才能更好地醫(yī)治。創(chuàng)傷性口炎會(huì)給患者帶來身體和精神上雙重的壓力，下面專家的分析。

　　引起口炎的常見病因：

　　一、化學(xué)因素

　　常見的化學(xué)物質(zhì)為具有腐蝕性的強(qiáng)酸。強(qiáng)堿。口腔治療用藥酚。硝酸銀。三氧化二砷等接觸了口腔粘膜。臨床上多見于誤入口腔或使用不當(dāng)。有時(shí)則為自傷性。

　　二、物理性因素

　　口腔粘膜的熱損傷并不多見。偶因飲料。茶水或食物過燙時(shí)引起粘膜燙傷。超過一定劑量放射線全身或頭面部照射。可引起全身和口腔組織損傷。造成急性放射病和/或放射性口炎。主要變化是炎癥。戰(zhàn)時(shí)發(fā)生在核武器爆炸后。和平時(shí)期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起。

　　三、機(jī)械性因素

　　這是創(chuàng)傷性口炎最多見的原因。常形成創(chuàng)傷性潰瘍。按刺激持續(xù)時(shí)間的不同。可分為持久性及非持久性刺激因素。持久性刺激因素包括齲齒破壞后的殘冠。殘根。尖銳的牙尖。經(jīng)磨損后的牙齒銳緣。不良修復(fù)體的卡環(huán)。尖銳邊緣。過長的基板。舌系帶過短時(shí)與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長期存留在口腔內(nèi)可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素。